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干式自磨原理

作者：紅星機(jī)器發(fā)布時(shí)間：2010-10-08 00:00:00

偉斯頓對(duì)干式自磨過程的理論進(jìn)行了較長(zhǎng)時(shí)間的研究。他對(duì)干式自磨機(jī)中礦石粉碎過程的運(yùn)動(dòng)情況作了如下的描述：

在干式自磨機(jī)中使礦石粉碎的主要原因有三方面：

（1）自由落下時(shí)的沖擊力；

（2）由壓力狀態(tài)突然改變至張力狀態(tài)的瞬時(shí)應(yīng)力；

（3）顆粒之間的相互摩擦。

如圖所示，新給礦中的小粒，由給料端進(jìn)入，沿A面均勻地落于筒體底部中心，然后向兩側(cè)擴(kuò)散。大塊具有較大的動(dòng)能，總是趨向較遠(yuǎn)的一側(cè)，但其中有一部分必然要和AB面相碰，然后向另一側(cè)返回，因之，也使大塊得到均勻分布。A——A、B——B 在這里的作用是防止給入物料有害的偏析。自排礦端沿下面返回的顆粒如同新給料中的細(xì)粒一樣，均勻地落于筒體底部的中，然后向兩邊擴(kuò)散。大塊和細(xì)粒在筒體底部沿軸向運(yùn)動(dòng)，方向正好相反，于是產(chǎn)生磨剝作用。

本篇內(nèi)容于2017-06-21 18:13:08已補(bǔ)充更新

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